ملاحظات طراحی سلف های تفاضلی در تکنولوژی CMOS برای RFIC
واتساپ:09141077352 همراه: 09141077352 ثابت: 35250068-041 سفارش سمینار و مقاله سفارش ترجمه تخصصی
 

دانلود فایل با شمار فاکتور

لطفا شماره فاکتور خود را درج نمایید


جدیدترین لغات واژه‌نامه

آمار بازدیدکنندگان

بازدید امروز :28
بازدید روز گذشته :66
بازدید این هفته :441
بازدید این ماه :1578
مجموع آمار بازدید ها :785552

عنوان محصول: ملاحظات طراحی سلف های تفاضلی در تکنولوژی CMOS برای RFIC

دسته‌بندی: مقالات ترجمه شده رشته الکترونیک
تاریخ انتشار: 2 آذر 1399
ملاحظات طراحی سلف های تفاضلی در تکنولوژی CMOS برای RFIC ملاحظات طراحی سلف های تفاضلی در تکنولوژی CMOS برای RFIC
توضیحات مختصر: سلف تفاضلی (متقارن) بخاطر فاکتور Q بزرگتر و سطح کوچکترش نسبت به سلف تک انتهایی در RFIC مبتنی بر سیلیکون مفید است. محدودیت ها شامل مقدار اندوکتانس (ضرب خودالقایی) و عرض مسیر سلف می باشند. اندوکتانس یا عرض مسیر بزرگ اغلب منجر به ظرفیت های کلی و سطح بزرگی می شوند. این مقاله، مباحث مربوط به محدودیت های ...
ملاحظات طراحی سلف های تفاضلی در تکنولوژی CMOS برای RFIC ملاحظات طراحی سلف های تفاضلی در تکنولوژی CMOS برای RFIC


قیمت قیمت : 28000 تومان
تخفیف تخفیف: 2000 تومان
تخفیف تخفیف ویژه : 10 درصد
قیمت نهایی قیمت نهایی: 23200 تومان
307 بازدید
کد مقاله: TTC- 3912
نوع فایل : docx
لینک دانلود فایل خریداری شده بلافاصله بعد از خرید موفق فعال خواهد شد.
Journal: IEEE

Design Considerations of Differential Inductors In CMOS Technology for RFIC
Abstract
Differential (symmetric) inductor is useful for its higher Q factor and smaller area than a single-end inductor in silicon-based RFIC. The limitations are the inductance value and the inductor track width. Large inductance or track width often results in too high of the overall capacitances and too large of the area. This paper addresses the issues of present differential inductor limitations and discusses a new type of differential inductor using multi-layer inter-leaf windings to overcome the present limitations. Significant area reduction is found. The designs based on the full-wave integral-equation simulation are intended for a six-metal layer 0 . 1 8 ~ CMOS technology, but it is also applicable to other silicon-base technologies. New compact high-performance differential inductors are fabricated and tested to validate the designs.

چکیده
سلف تفاضلی (متقارن) بخاطر فاکتور Q بزرگتر و سطح کوچکترش نسبت به سلف تک انتهایی در RFIC مبتنی بر سیلیکون مفید است. محدودیت ها شامل مقدار اندوکتانس (ضرب خودالقایی) و عرض مسیر سلف می باشند. اندوکتانس یا عرض مسیر بزرگ اغلب منجر به ظرفیت های کلی و سطح بزرگی می شوند. این مقاله، مباحث مربوط به محدودیت های سلف تفاضلی را طرح کرده و در مورد نوع جدید سلف تفاضلی با استفاده از سیم پیچ های تک برگ به منظور غلبه بر محدودیت های موجود بحث می کند. کاهش سطح عمده بدست می آید. طرح های مبتنی بر شبیه سازی معادله انتگرال موج کامل برای تکنولوژی لایه شش فلزی در نظر گرفته می شوند، که برای سایر تکنولوژی های مبتنی بر سیلیکون نیز قابل استفاده می باشد. سلف های تفاضلی با عملکرد بالای متراکم جدید به منظور معتبرسازی طرح ها، ساخته شده و مورد تست قرار می گیرند.
تعداد صفحات انگلیسی تعداد صفحات انگلیسی:4 صفحه
تعداد صفحات فارسی تعداد صفحات فـارسـی:9 صفحه

  • آدرس: تبریز، آبرسان، مهرگان چهارم
  • تلفن  تماس: 09016347107
  • تلفن  ثابت : 35250068-041
  •  Mailttcenterاین آدرس ایمیل توسط spambots حفاظت می شود. برای دیدن شما نیاز به جاوا اسکریپت دارید : آدرس  ایمیل
  • @zoodyab :آدرس تلگرام
مرکز  تخصصی  تلاش ترجمه از  سال  1385 شروع به کار نموده است  و تا کنون بیش از ده هزار ترجمه در رشته ها و زمینه های مختلف توسط متخصصین این مرکز انجام  شده  است.

تمامی ترجمه‌های انجام شده توسط موسسه تخصصی تلاش ترجمه، به صورت دستی (غیرماشینی) بوده و توسط مترجمین با سابقه انجام می‌شوند. ترجمه‌های انجام شده توسط موسسه تلاش ترجمه در قالب فایل Word و به صورت کاملا روان و بازخوانی شده و با ضمانت بازگشت وجه 72 ساعته (در صورت عدم رضایت از ترجمه) خدمت مشتریان محترم ارائه می‌شود.